AVS2011参加報告

3 次元ナノ構造形成プロセス技術の開発の研究テーマである「中性粒子を用いた高精度プラズマエッチング」に関する研究成果を発表し、その評価を得るとともに広報を行い、併せて関連情報の収集を行うことを目的とし、国際会議「AVS 58th INTERNATIONAL SYMPOSIUM & EXHIBITION」（AVS2011）に参加しました。本会議は、ナッシュビル市コンベンションセンター（テネシー州・米国）で2011年10月30日（日）～2011年11月4日（金）に開催されました。下の写真は、会場となったコンベンションセンターの外観（上）とロビーの様子（下）です。

本会議は半導体製造技術、固体表面分析技術などの真空技術に関連した研究開発の世界的な学術会議です。取り扱う学術領域は広範囲で、先端表面加工、応用表面科学、バイオマテリアル、電子素材加工、磁気インターフェースとナノ構造、製造科学技術、ＭＥＭＳ／ＮＥＭＳ、ナノスケール科学技術、プラズマ科学技術、表面科学、薄膜、真空技術の１２分野に及びます。本会議は約１４０件のセッションで構成され、約１３００件の講演と２５０件の招待講演が行われました。会議には約３０００人の参加者が訪れ、企業２００社が展示を行いました。下の写真は、参加企業による展示会場の様子です。

本会議には昨年度から中性粒子ビーム・低ダメージプロセス（Neutral Beam and Low Damage Processing）分野のセッションが設けられました。そのため中性粒子を用いた高精度プラズマエッチング技術に関する研究者が集まる世界的な会議の一つとなっています。同セッションの研究分野は日本の研究者が先駆しており、昨年度と同様に今年度第58回年会の同セッションの講演も日本の研究者によって全て占められ、同分野における日本の研究開発力の高さが際立っていました。

同セッションはこの分野で先駆的に活躍し、昨年度第57回の同年会にてPlasma Prizeを受賞した東北大学寒川教授による基調講演「Plasma Prize Lecture - Super-low Damage Top-down Processing for Future Nanoscale Devices」で開始され、中性粒子ビームによる超微細なナノスケール加工技術の未来について講演されました。この講演を聴講するため、講演会場の小室にはさまざまな国から参加した100名を超える研究者が集まり、立ち見が出る賑わいでした。

AVS2011において、BEANSプロジェクトからは以下の3件の口頭発表と１件のポスター発表が採択され、口頭発表についてはいずれも同セッションで行われました。

＜口頭発表（３件）＞

■ PS-ThM4: N.WATANABE, S.OHTSUKA, T.IWASAKI, K.ONO, Y.IRIYE, S.UEKI, O.NUKAGA, T.KUBOTA, M.SUGIYAMA and S.SAMUKAWA, “Theoretical Analysis of Electron Transfer during the Process of Neutral Beam Generation”

■ PS-ThM5: S.OHTSUKA, N.WATANABE, T.IWASAKI, K.ONO, Y.IRIYE, S.UEKI, O.NUKAGA, T.KUBOTA, M.SUGIYAMA and S.SAMUKAWA, “Energy and Angular Distribution Analysis for Neutral Beam and Application for Etching Simulation”

■ PS-ThM6: T.KUBOTA, A.WADA, S.OHTSUKA, K.ONO, H.OHTAKE, S.UEKI, Y.NISHIMORI, G.HASHIGUCHI and S.SAMUKAWA, “High-Aspect-Ratio Silicon Etching using Large-Diameter Neutral Beam Source”

＜ポスター発表（１件）＞

■ PS-ThP16: Y.NISHIMORI, S.UEKI, T.KUBOTA, M.SUGIYAMA, and G.HASHIGUCHI, “Qualitative Research on Low-Damage Neutral Beam Etching Effect of Mechanical Properties”

次回のAVS 59th International Symposium & Exhibition（AVS2012）は、2012年10月28日(日)～11月2日（水）に，テンパ市コンベンションセンター（フロリダ州・米国）で開催される予定です。