TIA N-MEMS シンポジウム「MNOIC装置セミナー」 ポスター報告のご案内

既にご案内しています２０１２年２月14日開催のTIA N-MEMS シンポジウム「MNOIC装置セミナー」 におけるポスター報告のリストができましたのでご案内致します。皆様の積極的なご参加をお待ちしています。申し込みはこちらからお願い致します。申し込みは随時受け付けます。また当日受付も致しますので直接講演会場でお申し込みください。（MNOIC研究企画　三原　孝士）

TIA N-MEMS シンポジウム「MNOIC装置セミナー」

「ツール　de　ＭＮＯＩＣ -先端NMEMS拠点見学と研究開発ツール紹介-」

開催日：２０１２年２月１４日（火曜日）　１３時２０分から１７時１０分
（但し、MNOIC装置見学会は１１時２０分から１２時１５分まで）
開催地：産総研・東事業所　NMEMSイノベーション棟（４G棟）
国際セミナー室（１F　ロビー横）
連絡先およびアクセス：つくば開発センター
掲載：こちら
主催：一般財団法人マイクロマシンセンター　MNOIC
共催：集積マイクロシステム研究センター（独立行政法人・産業技術総合研究所）
後　援：つくばイノベーションアリーナナノテクノロジー拠点運営最高会議

４． 第四部　ポスターセッションとMNOIC個別相談会　(16:10-17:1 0)　
・ 場所：国際セミナー室にて
　（MNOIC個別相談は４F　MNOIC研究居室にて）
・世界最先端大口径MEMS製造装置群のポスターご紹介
・UMEMSME関連の最先端研究状況ポスターおよび関連技術展示
・MNOIC個別相談会（ご希望者は申し込み時、あるいは受付時にお申し込みください。）：４F　MNOIC研究居室にて）

以下、ポスター報告のリストです。

	装置名	会社名	展示概要
1	ウェハ洗浄装置ほか	㈱日立ハイテクトレーディング	ウェハのセミオートスピン洗浄・乾燥装置
2	異方性エッチング装置ほか	㈱カナメックス	ウェハ揺動による高均一性エッチング
3	マスク露光装置、接合装置	イーヴィグループジャパン㈱	高段差対応、両面アライメント、プロキシミティ露光
4	マスクレス露光装置	東芝機械㈱	大口径ウェハへのDMDによるレーザスキャン直描
5	TEOS-CVD、TSVへの応用	サムコ㈱	高アスペクトTSVに適した低温SiO2プラズマCVD成膜
6	縦型炉	光洋サーモシステム㈱	カセットツーカセット25枚バッチ半量産装置
7	ICPドライエッチング装置	パナソニック㈱	低フットプリント、SiO2・メタルICPドライエッチング
8	大口径Si深堀ドライエッチ装置	SPPテクノロジーズ㈱	8インチ、12インチボッシュプロセスDeepRIE装置
9	犠牲層ドライエッチ装置	キャノンマーケティングジャパン㈱	SiO2犠牲層リリースエッチング、撥水膜コーティング装置
	産業用X線CT装置	キャノンマーケティングジャパン㈱	X線撮像による3D構造の非破壊評価装置
10	光学検査装置	㈱モリテックス	ウェハレベル自動光学顕微鏡観察欠陥検査装置
11	チップtoウェハ/ウェハ接合装置	ボンドテック㈱	プラズマクリーニングによるウェハレベル低温接合
12	MEMSテスター	エスティケイテクノロジー㈱	セミオートウェハレベルプローバテスター
13	MemsONE	みずほ情報総研㈱	純国産のMEMS用設計解析支援システムソフトウェア
14	ミニマルファブ	(独)産業技術総合研究所	超小型ウェハによる枚葉処理半導体プロセス装置
15	大面積電鋳金型技術	池上金型工業㈱	12インチ対応金型電鋳プロセス技術
16	検討中	ナノクラフトテクノロジーズ㈱	検討中
17	検討中	マリモ電子工業㈱	検討中
18	検討中	㈲VIYIA	検討中
19	検討中	㈱D-process	検討中